光子微結構的設計 制備與表征研究

第1章 緒論
1.1 研究背景與意義
1.2 光子微結構制備技術的研究現(xiàn)狀
1.2.1 傳統(tǒng)的光子微結構制備技術
1.2.2 光感應技術制備光折變光子微結構
1.3 本書的主要研究內(nèi)容和特色
1.3.1 本書的主要研究內(nèi)容
1.3.2 本書的特色
1.4 本書的結構安排
參考文獻
第2章 光感應技術的理論基礎
2.1 電光效應
2.2 光折變效應
2.3 光折變過程的帶輸運模型
2.4 光折變材料——鈮酸鋰晶體
2.5 光波在非線性光學介質中傳播的基本方程
2.6 光折變非線性
2.6.1 線性電光效應
2.6.2 帶運輸模型
2.6.3 各向 近似模型
2.6.4 各向異性模型
2.7 周期性光學微結構
2.7.1 光子帶隙頻譜
參考文獻
第3章 光折變準晶光子微結構的制備與表征
3.1 準晶光子微結構的研究背景
3.2 多針孔板方案的理論基礎
3.3 二維光折變準晶光子微結構的制備與表征
3.4 三維光折變準晶光子微結構的制備與表征
3.5 本章小結
參考文獻
第4章 大面積二維光折變光子微結構的制備與表征
4.1 多透鏡板法制備大面積二維光折變光子微結構
4.1.1 多透鏡板法的基本原理
4.1.2 大面積二維三角品格光子微結構的制備與表征
4.2 多楔面棱鏡法制備大面積二維光折變光子微結構
4.2.1 多楔面棱鏡的基本原理
4.2.2 大面積二維四方晶格與準晶光子微結構的制備與表征
4.3 本章小結
參考文獻
第5章 二維復雜光折變光子微結構的制備與表征
5.1 基于多光束干涉原理的復合周期光子微結構制備
5.1.1 多光束干涉產(chǎn)生復合周期光強圖案的原理
5.1.2 多光束干涉制備復合周期光子微結構
5.2 基于投影成像方法的復雜光子微結構制備
5.2.1 投影成像法的原理與基礎
5.2.2 投影成像法中光源的選取
5.2.3 投影成像法制備復雜類型光子微結構
5.3 本章小結
參考文獻