現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)

定　價：￥58.00

作　者：	蘇俊宏，田愛玲，楊利紅著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項：
標　簽：	工業(yè)技術(shù) 教材教輔研究生一般工業(yè)技術(shù)

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ISBN：	9787030366641	出版時間：	2013-03-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	335	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)研究領(lǐng)域包括光干涉技術(shù)、光衍射技術(shù)、光偏振技術(shù)、光全息技術(shù)、光掃描技術(shù)、光散斑技術(shù)、莫爾技術(shù)、光譜技術(shù)、光纖技術(shù)，等等。本書涉及內(nèi)容除基本光學(xué)測量技術(shù)外，主要以光干涉測試技術(shù)為主，介紹了各種光學(xué)量的測試原理及測試方法?！冬F(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)》共11章。第一、二章系統(tǒng)地介紹了現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)的基本理論及其發(fā)展；第三章介紹了光學(xué)材料及其基本參數(shù)的測試問題；第四章系統(tǒng)介紹了幾種常用的典型干涉儀；第五章是光電相位探測技術(shù)；第六、七章分別介紹了平面元件與球面元件測試技術(shù)．；第八章介紹了非球面測試技術(shù)的基本知識及測試方法；第九章介紹了干涉測長技術(shù)；第十章介紹了莫爾條紋測量技術(shù)；第十一章介紹了光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評價方法?！冬F(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)》具有理論與實踐密切結(jié)合、論述系統(tǒng)深入的特點，可作為相關(guān)專業(yè)的研究生教材，也可供相關(guān)工程技術(shù)人員作為設(shè)計光學(xué)測試系統(tǒng)的參考資料。

作者簡介

暫缺《現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)》作者簡介

圖書目錄

前言
第一章現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)綜述
第一節(jié) 研究領(lǐng)域及技術(shù)特征
第二節(jié) 現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)的現(xiàn)狀與應(yīng)用
第三節(jié) 光學(xué)測試方法的選取原則
第四節(jié) 現(xiàn)代光學(xué)測試技術(shù)的發(fā)展趨勢
參考文獻
第二章光具座上的綜合檢測
第一節(jié) 測量中的對準技術(shù)與調(diào)焦技術(shù)
第二節(jié) 光學(xué)測試裝置的基本部件及其組合
第三節(jié) 焦距和頂焦距的測量
參考文獻
第三章光學(xué)材料測試
第一節(jié) 光學(xué)玻璃材料概述
第二節(jié) 光學(xué)玻璃折射率測量
第三節(jié) 光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性測量
第四節(jié) 光學(xué)玻璃應(yīng)力雙折射測量
參考文獻
第四章基本的光干涉測量技術(shù)
第一節(jié) 干涉條紋的分析判讀及波面質(zhì)量評價
第二節(jié) 幾種典型的干涉儀
第三節(jié) 波面錯位干涉測量
第四節(jié) 干涉圖分析與波面擬合
第五節(jié) 波像差及其測量
參考文獻
第五章光電相位測量技術(shù)
第一節(jié) 相位的靜態(tài)測試技術(shù)
第二節(jié) 相位的動態(tài)測試技術(shù)
參考文獻
第六章平面元件測試技術(shù)
第一節(jié) 平面元件基本量測量
第二節(jié) 平面光學(xué)元件面形偏差檢測
第三節(jié) 平面光學(xué)元件光學(xué)平行度測量
參考文獻
第七章球面元件測試技術(shù)
第一節(jié) 球面曲率半徑測量
第二節(jié) 球面光學(xué)元件面形偏差檢測
參考文獻
第八章非球面測試技術(shù)
第一節(jié) 非球面的基本知識
第二節(jié) 非球面面形測試方法
參考文獻
第九章干涉測長技術(shù)
第一節(jié) 高精度量塊測量技術(shù)
第二節(jié) 激光干涉測長
參考文獻
第十章莫爾條紋技術(shù)
第一節(jié) 莫爾條紋形成原理
第二節(jié) 莫爾條紋測量技術(shù)
參考文獻
第十一章光學(xué)系統(tǒng)評價
第一節(jié) 光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評價方法概述
第二節(jié) 分辨率測試
第三節(jié) 成像質(zhì)量評價的星點檢驗法
第四節(jié) 光學(xué)傳遞函數(shù)
第五節(jié) 干涉測量
參考文獻